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    超透镜,平面透镜

    时间:2023-09-15 类别:光学元器件 关注:4666

    75mm超长焦深, 对不同深度的重叠物体实现无像差成像,非常适合激光加工(打标/焊接/切割)

    超透镜(Metalens)是指具有超越衍射极限的聚焦能力和捕捉光信号的能力的透镜,是一种二维平面透镜结构,利用人造亚波长单元结构在传统介质上进行波前调控的光学器件,超透镜拥有体积更薄、重量更轻、成本更低、成像更好、更易集成的优点,为紧凑集成的光学系统提供了潜在的解决方案。并且可通过调整结构的形状、旋转方向、高度等参数实现对光的偏振、相位和振幅等属性进行调控。其特点是可以弥补普通透镜受衍射极限的限制,相比普通透镜,超透镜体积更小、重量更轻、成本更低、一致性更好。一片超透镜就能替代多片传统透镜,因此超透镜可以广泛应用在摄影摄像、AR/VR、航空航天、智能汽车、显微成像、以及无人机和机器人领域。

    平博·「pinnacle」一站式供应各种类型的平面透镜,超透镜,超构透镜,衍射透镜,微透镜,可提供选型、技术指导、安装培训、个性定制等全生命周期、全流程服务,欢迎联系平博·「pinnacle」的产品经理!

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    产品经理信息

    平博·「pinnacle」的平面透镜非常适合激光加工,它们提供了很长的焦深,可以很容易地精确标记各种非平面的物体。无论你是需要用序列号标记金属零件,还是需要将塑料零件焊接在一起,这个镜头都会让工作变得简单,它是新一代超轻、低成本、高性能的超透镜。平博·「pinnacle」的镜头非常适合需要在长焦深上获得高分辨率的应用。每个镜头都很小巧,很容易集成到您的系统中。它还可定制任何激光波长和光束直径,非常适合您的需求。平博·「pinnacle」的镜头通过光刻工艺精心制作,每次都能提供最佳效果。使用平博·「pinnacle」的透镜,您可以体验到各种激光加工的精度、质量和可靠性的提高。平博·「pinnacle」创造了一种先进的光学表面设计技术,能够实现超轻、低成本和高性能的超透镜。平博·「pinnacle」在光学设计和高精度批量制造方面的专业知识使平博·「pinnacle」能够提供传统折射、衍射或超透镜方法无法实现的光学性能和能力。

    STOB系列超长焦深平面透镜

    平面透镜非常适合激光加工,它们提供了很长的焦深,可以轻松精确地标记各种非平面物体。无论你是需要用序列号标记金属零件,还是需要将塑料零件焊接在一起,这个镜头都会让工作变得简单。

    该镜头具有以下优点:

    • 扩展焦深(>75 mm)

    • 出色的PSF性能

    • 超低轮廓

    • 低成本、大批量生产

    • 可定制任何激光波长的平面透镜

    • 耐受高激光通量

    规格:

    光学规格
    波长1064nm
    焦距EFL195-270mm
    焦深DOF(扩展)75mm
    透镜直径3mm
    传输效率>90%
    耐受高激光功率
    机械规格
    直径3mm
    厚度<1mm
    重量<1克
    PSF光斑大。‵WHM)
    距镜头195mm78μm
    距透镜225mm103um
    距镜头270mm98um

    超长焦深(EDOF)平面透镜的性能如下图所示。在图 (a) 中,计算得出的点散射函数(PSF)显示了扩展焦深范围内的良好聚焦效果。计算出的 Point-spread function (PSF) 与镜头距离的函数关系也显示在图(b)中。图 (c) 右侧显示了距离镜头 195 - 270mm的标准黑卡标记测试以及标记的显微镜放大(50倍放大率)。目标距离发生变化时没有进行重新对焦。虽然由于工作距离的原因,标记的大小有所变化,但光斑的大小保持一致。在图(d)最下方的照片中,在一张折叠的卡片上进行了标准黑卡标记测试,卡片的两个表面相距30mm。两个表面上的标记都清晰明确。

    订购号:

    • STOB-EDF-WW-XX-YY

    • WW : 波长(Wavelength)

    • XX : 焦距 (EFL)

    • YY :焦深(Depth of field)

    例如:STOB-EDF-1064-195-55

    • 波长 = 1064nm

    • EFL =>195mm

    • 焦深 = 55mm

    下表显示了平博·「pinnacle」的一些产品参数的范围:

    波长EFLDOF直径光斑大小
    355 nm25 - 100 mm25, 50 mm3 - 6 mm25 - 250 um
    532 nm25 - 100 mm25, 50 mm3 - 6 mm25 - 250 um
    1064 nm25 - 100 mm25, 50 mm3 - 6 mm25 - 250 um
    10.6 um25 - 100 mm25, 50 mm3 - 6 mm50 - 250 um

    订购超透镜时,请告诉平博·「pinnacle」您对激光波长、有效焦距、焦深、光束直径、聚焦光斑直径和数量的要求。

    STOB系列用于扩展焦深应用的轴锥超透镜

    平博·「pinnacle」是轴锥超透镜的独家制造商,适用于需要在扩展焦深上获得高分辨率的应用。应用包括激光打标、机械加工、焊接、显微镜、成像和眼科。

    这种镜片具有以下优点:

    • 扩展聚焦深度(例如,>70mm)

    • 不需要缓慢且昂贵的调焦结构

    • 相对于传统轴锥镜更长的工作距离(可能大于250mm)

    • 在扩展焦深 (DOF) 范围内峰值强度均匀

    • 高效率和衍射极限光斑尺寸。

    • 低成本、薄(<1mm)和轻(1g)

    • 可定制任何激光波长和光束直径

    • 耐受高激光通量

    以下透镜规格代表了平博·「pinnacle」的轴锥超透镜的技术能力。其他规格请联系平博·「pinnacle」。

    产品型号STOB-1064-6-280
    波长1064nm
    直径6mm
    EFL280mm
    DOF (extended)50mm
    光斑直径 (FWHM)<67  ?m
    光轴方向光强变化+/- 10%

    实验数据

    • a) 轴向点扩散函数

    • b) 距透镜三个距离处的点扩散函数,

    • c) 轴上光斑的峰值强度。沿工作距离的变化为+/-10%

    零件编号STOB-10.6-8-64
    波长10.6?m
    直径8mm
    EFL64mm
    DOF(扩展)16mm
    光斑大。‵WHM)<85?m

    实验数据和软件仿真

    • a) 轴点扩散函数的软件仿真

    • b) 点扩散函数在距透镜三个距离处的实验数据

    • c) 实验数据显示了测量的焦深和光斑大小的FWHM。

    STOB系列FOV红外透镜,适用于飞行时间应用

    平博·「pinnacle」设计并制造了一种超低轮廓衍射超透镜,适用于需要扩展视野的应用。该技术具有以下优点:

    • 80度视野

    • 出色的PSF性能

    • 超低TTL(<2.5毫米)

    • 低成本、大批量生产

    • 可定制任何波长

    以下镜头规格代表了平博·「pinnacle」的红外超透镜技术能力。请联系平博·「pinnacle」了解定制要求和设计能力。

    STOB系列大视场红外TOF超透镜技术参数

    光学规格
    波长850纳米
    焦距EFL1.5mm
    视场FOV80度
    光斑大。‵WHM)衍射极限
    透镜直径0.42毫米
    传输效率>90%
    机械规格
    直径0.42mm
    厚度<1mm
    重量<1克
    光斑大小(FWHM)
    0度7.3um
    40度10.7um
    80度22.4um

    大视场TOF超透镜的性能如下所示,点扩散函数(PSF)在850nm处。PSF在80度的整个视场中显示出高性能聚焦。

    订购号:

    • STOB-LFV-WW-XX-YY

    • WW : 波长

    • XX : 焦距 (EFL)

    • YY : 视场(FOV)

    示例:

    • STOB-LFV-1064-2-70

    • Wavelength = 1064nm

    • EFL = 2mm

    • FOV = 70 degree

    STOB系列用于成像应用的超透镜微透镜阵列

    平博·「pinnacle」设计并构建了一个自由形式的衍射微透镜阵列,适用于3D积分成像的多种应用,包括:

    • 防伪技术

    • 物理安全

    • 3D显示

    • 光场相机

    • 波前传感器

    • 光纤耦合

    用于成像应用的柔性基板上的聚合透镜的微透镜阵列。 (微透镜间距=70μm,f数:f/0.5,基板厚度40μm)

    使用超透镜微透镜阵列和高分辨率彩色打印演示的整体成像。当印刷品加上微透镜阵列倾斜时,三维图案和颜色发生变化。此演示在文档安全方面有应用。

    STOB系列超透镜技术的主要优势:

    • 低f#(0.5及以上)

    • 扩展焦深,坚固耐用

    • 可见光、近红外或长波红外的宽带性能

    • 100%填充因子

    • 具有超低外形的灵活设备

    • 使用纳米压印光刻技术实现低成本、大批量生产

    • 简化对齐

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